工作電壓220V
產(chǎn)水量60~120L/h
電功率80~150W
控制方式全自動(dòng)微電腦控制
材質(zhì)鈑金或ABS
原水預(yù)處理部分有:原水中含有多種雜質(zhì),如懸浮物、膠體、有機(jī)物和無(wú)機(jī)物。為保證本系統(tǒng)中反滲透預(yù)除鹽部分的正常運(yùn)轉(zhuǎn),必須先去除水中的懸浮物、膠體、有機(jī)物等,使反滲透的進(jìn)水達(dá)到要求,故本系統(tǒng)設(shè)置原水預(yù)處理部分。原水預(yù)處理部分包括機(jī)械濾器、活性炭濾器、保安濾器等裝置。
反滲透純凈水設(shè)備系統(tǒng)構(gòu)成
反滲透純凈水處理系統(tǒng)一般包括預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透裝置、后處理系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)和電氣控制系統(tǒng)等。預(yù)處理系統(tǒng)一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、精密過(guò)濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質(zhì),達(dá)到反滲透的進(jìn)水要求。 反滲透裝置主要包括多級(jí)高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質(zhì),使出水滿(mǎn)足使用要求。
后處理系統(tǒng)是在反滲透不能滿(mǎn)足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽(yáng)床、混床、殺菌、超濾等其中的一種或者多種設(shè)備。
清洗系統(tǒng)主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過(guò)濾器組成。當(dāng)反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標(biāo)不能滿(mǎn)足要求時(shí),需要對(duì)反滲透進(jìn)行清洗使之恢復(fù)。
電氣控制系統(tǒng)是用來(lái)控制整個(gè)反滲透系統(tǒng)正常運(yùn)行的。包括儀表盤(pán)、控制盤(pán)、各種電器保護(hù)、電氣控制柜等。

超純水機(jī)的安全保障:該設(shè)備內(nèi)置自動(dòng)清洗、水路循環(huán)程序;設(shè)備缺水、斷電均可實(shí)時(shí)報(bào)警并同步顯示;在水質(zhì)超標(biāo)時(shí),設(shè)備進(jìn)行蜂鳴報(bào)警狀態(tài),提醒用戶(hù)用水狀態(tài),且設(shè)備具有密碼開(kāi)機(jī)保護(hù)模式,以防止外來(lái)人員在未經(jīng)許可的情況下擅自改或誤改產(chǎn)水參數(shù),從而導(dǎo)致對(duì)后期的實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生不可逆的損失和影響。

純水水質(zhì)取決于組件從淡水室中除去離子的能力,單位時(shí)間內(nèi)給水離子總量過(guò)高通常會(huì)導(dǎo)致較低的產(chǎn)品水水質(zhì)。無(wú)論對(duì)強(qiáng)電解質(zhì)(NaCl)還是弱電解質(zhì)(二氧化硅、碳以及碳酸鹽),均如此。過(guò)高的給水離子總量導(dǎo)致兩個(gè)結(jié)果:是在EDI組件內(nèi)部樹(shù)脂工作界限向出水端遷移,這導(dǎo)致拋光樹(shù)脂量減小。

進(jìn)水要求*
城市自來(lái)水:TDS<200ppm,5-45℃,1.0-4.0Kgf/c㎡(進(jìn)水TDS>200ppm時(shí),建議選配外置軟化器)
系統(tǒng)流程**
PF+RO+DI
DI去離子水指標(biāo):
電阻率
13-17.5MΩ·cm@25℃
重金屬離子
<0.1ppb
顆粒物(>0.2um)
<1/ml
RO反滲透指標(biāo):
離子截留率
96%-99%(使用新RO膜時(shí))
有機(jī)物截留率
>99%(MV>200道爾頓時(shí))
顆粒和細(xì) 菌截留率
>99%
產(chǎn)水量(25℃)***
5/10L/H
瞬間出水量
1.5-2.0L/min(需配壓力桶)
出水口
2個(gè):RO反滲透水,DI去離子水
尺寸/重量
(寬 × 深 × 高 ) 415×370×480mm/ 約 19Kg
電源/功率/噪音
220V50HZ / 50~80W/<50db
標(biāo)準(zhǔn)配置
主機(jī)(含1套純化柱)+外置12升壓力桶+附件包
小型化:對(duì)各項(xiàng)處理技術(shù)進(jìn)行研發(fā)新,節(jié)約空間;
集成化:采用模塊化組合,縮小空間,將處理模塊集中到主機(jī)柜;
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